有各種各樣的設備用于進行結晶過程，稱為結晶器。這種設備可分為哪幾類呢？下面，就為大家帶來結晶器四大類型介紹，以供大家參考哦！
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??1、整體溶液結晶器。晶體在溶液中懸浮很長時間，同時發生成核和生長。
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??2、沉淀容器。進入容器的進料流產生高過飽和度（通過化學反應、淹沒或鹽析），非常迅速地形成大量小晶體。
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??3、熔融結晶器形成多個晶體。溶液或熔體的體積（通常> 90％）在懸浮液中或在冷卻表面上形成晶體。雜質殘留在少量未結晶的母液中。
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??4、熔融結晶器形成大的高純度單晶。晶體從高純度熔體中慢慢形成，產生大而純凈且無缺陷的晶體。這些通常用于半導體制造。
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??所有這些類型的設備都有共同點：
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??1、產生過飽和度以驅動結晶的區域。
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??2、晶體與過飽和溶液接觸的區域，用于晶體生長。在某些情況下，整個容器中都存在晶體，通過某種形式的攪拌懸浮;在其他情況下，晶體僅占據容器的一部分，通常作為流化床。
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